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第82章 双管齐下继续推进硅晶体管研制工作（第1页）

次日，早。

江阳刚刚来到半导体实验室。

京机厂那边。

就送来了j5060通过最终测试的消息。

至此。

他们终于拥有了，能够完成制备，且满足光刻要求硅片的设备。

会议室内。

王寿吾正在对这段时间的研究成果，进行总结。

除开j5060外。

完成了化学机械抛光。

并利用两台显微镜加一个紫外曝光灯，搭建了“土光刻机”。

虽说只能勉强实现10微米的线宽。

但也能满足最低图形分辨率的须求。

当然。

也不是所有的研究都一帆风顺。

王寿吾道：

“光刻和扩散，是我们现在面临的两大难题。”

“手工光刻误差太大。”

“而开关扩散的掺杂，不仅存在波动，同一晶体管上的阈值电压差异——””

他说完后。

众人陷入沉思。

江阳也没有着急开口，而是等待众人讨论。

毕竟他不能什么都解决。

没过多久。

很快便有人开口，道：

“我认为，可以尝试从光刻胶上取得突破。”

听到他的话。

所有人都下意识地看向江阳。

光刻胶这个概念。

还是江阳提出来的。

在此之前，他们都是以合金法和台面工艺制作晶体管，无需光刻胶。

王寿吾颌首道：

“汤教授，您请继续。”

闻言，汤定远道：